TUW-71DA/72DA精密清洗系列电子氟化液,赋能国产替代

2026-04-23

国产替代加速！ TUW-71DA/72DA精密清洗系列正式上市

3M Novec™ 71DA/72DA 将于 2025 年底全面停产
深圳华益兄弟科技发布高性能国产替代解决方案
你可知道？每一颗高端芯片在出厂前都需要经过数百道精密清洗工序。一种“精密清洗剂”正在推动整个半导体产业链的大变革。
3M于2025年3月31日正式停止接受Novec™71DA/72DA的新订单，并将在2025年底前全面停止所有含有PFAS的产品。
在此背景下，深圳华益兄弟科技有限公司正式推出TUW-71DA、TUW-72DA精密清洗系列电子含氟液，为半导体制造、电子精密组装、光学元件清洗等行业提供高性能国产替代解决方案。

一、行业背景：精密清洗国产替代新机遇

精密清洗是半导体生产、电子组装、精密仪器加工等高端制造领域的核心工艺。随着制造工艺节点不断缩小尺寸，对清洁技术的清洁度、安全性和环保性能提出了更严格的标准。
逐步淘汰传统溶剂
❌ 传统溶剂如CFC-113、三氯乙烯会造成臭氧层破坏（ODP>0），且具有易燃性和高毒性。
✅ 创新氢氟醚清洗剂，零ODP、不易燃、低毒，代表主流发展趋势。

全球供应链格局的变化

⚠️3M停产含PFAS产品引发了全球供应链的深刻变化。

• ✅ 中国国内氢氟醚产业链正在加速完善。

国内产能突破

高纯氢氟醚7100正式量产，填补了国内高端氢氟醚领域产能空白。

• 项目总投资：近5亿元人民币

• 新增年产能：2,000吨

这种坚实的原材料供应基础为TUW-71DA/72DA的国产替代提供了强有力的支撑。

二.产品发布：TUW-71DA/72DA核心参数

TUW-71DA和TUW-72DA是深圳华益兄弟科技有限公司开发的国产精密清洗溶剂，直接等效于3M™ Novec™ 71DA和72DA。广泛适用于蒸汽脱脂、精密部件清洗、润滑油残留清除等场景。

TUW-71DA精密清洗剂

参数项	规格
化学成分	甲基非氟丁基醚+反式1,2-二氯乙烯+乙醇（三元共沸物）
HFE 成分 CAS 编号	163702-07-6 / 163702-08-7
外貌	无色透明液体，几乎无味
沸点	40℃
冰点	-29℃
密度（25°C）	1.33克/立方厘米
表面张力	16.4毫牛/米
粘度（25℃）	0.45厘泊
蒸气压	381毫米汞柱
知识库值	33
臭氧开发计划	0
全球升温潜能值	约157
闪点	无（不易燃）

TUW-72DA 蒸汽除油剂

参数项	规格
化学成分	甲基非氟丁基醚+反式1,2-二氯乙烯+乙醇（三元共沸物）
HFE 成分 CAS 编号	163702-05-4 / 163702-06-5
外貌	无色透明液体
沸点	76℃
冰点	-50℃
密度（25°C）	1.47克/立方厘米
表面张力	15.2毫牛/米
粘度（25℃）	0.65厘泊
臭氧开发计划	0
全球升温潜能值	170
闪点	无（不易燃）

三．技术优势

1. 卓越的清洁性能

低表面张力：渗透微间隙，清洁具有复杂几何结构的精密部件
灵活的温度适应性：40°C沸点用于快速干燥（71DA）和76°C用于高温蒸汽脱脂（72DA）
配方稳定：三元共沸配方确保长期性能一致
高效净化：乙醇含量增强离子污染物的溶解和去除

2. 环境合规与安全

表格

特征	描述
零消耗臭氧层物质	无臭氧消耗潜势，完全符合《蒙特利尔议定书》
不易燃	无闪点，提高操作安全性
低毒性	环保，对人体健康和环境无害

3、稳定的供应链

借助中国国内氟化工产业链的不断完善，我们为全球客户提供稳定的产品供应和专业的技术支持。

四．应用场景

半导体制造
PCB助焊剂去除
精密电子元件清洗
半导体器件清洗
包装前精密清洗
蒸汽脱脂工艺
适用于自动化连续生产线
可通过蒸馏和再生回收以降低成本
光学与精密仪器
LCD/OLED显示屏清洁
光学镜片及镜片组件清洗
精密机械零件清洗
预涂处理
去除硅油和润滑剂残留物
电子镀膜工艺的预处理
橡胶和塑料部件的清洁

结论
随着全球PFAS法规的日益严格以及3M含PFAS产品即将全面停产，TUW-71DA/72DA的推出标志着国内高端电子精密清洗用氟化液的强势崛起。
当一个巨人倒下时，无数产业却蓬勃发展。 3M的市场退出加速了我国含氟液体行业的自主发展。这一转变在带来挑战的同时，也为中国半导体产业链自主可控发展创造了关键机遇。

深圳华益兄弟科技有限公司将继续专注于电子氟化液的研发和生产，提供高性价比、高性能的国产替代解决方案，共同推动中国半导体产业高质量发展。

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